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重磅发布｜思显光电参与起草 JJF 2382-2026《光谱共焦位移测量仪校准规范》
发布时间：
2026-05-14
近日，中华人民共和国国家计量技术规范 JJF 2382-2026《光谱共焦位移测量仪校准规范》 正式发布。该规范由国家市场监督管理总局发布，发布日期为 2026 年 4 月 2 日，将于 2026 年 10 月 2 日 正式实施。
作为长期深耕光谱共焦精密测量技术的国产高端光学测量企业，思显光电技术（上海）有限公司参与了该项规范的起草工作。在规范文件中，思显光电技术（上海）有限公司被列为参加起草单位。
一、国家计量技术规范发布，光谱共焦位移测量有了重要校准依据
光谱共焦位移测量仪是一种基于光学色散原理，通过建立距离与波长之间的对应关系，并利用光谱仪解码光谱信息，从而获得位置信息的精密测量装置。规范中指出，该类仪器通常由光谱共焦传感器、光谱仪及控制器、数据处理电脑组成，主要用于位移测量，在微电子、半导体、液晶平板等领域具有广泛应用。
随着半导体封装、微电子制造、液晶面板、精密加工、新能源、3C 电子等行业对非接触、高精度、高稳定性位移测量需求的不断提升，光谱共焦位移测量仪已成为越来越多高端制造场景中的关键检测工具。
在此背景下，JJF 2382-2026《光谱共焦位移测量仪校准规范》的发布，为光谱共焦位移测量仪的校准、验收、复校及精度评价提供了重要技术依据，也标志着该类仪器的应用正在进一步走向规范化、标准化和可溯源化。
二、思显光电参与起草，持续推动行业计量规范建设
在 JJF 2382-2026《光谱共焦位移测量仪校准规范》中，思显光电技术（上海）有限公司被列为参加起草单位。
这不仅体现了思显光电在光谱共焦测量技术领域的长期积累，也体现了公司在光谱共焦位移测量、精度评价、应用验证和国产高端精密测量装备发展方面的持续投入。
多年来，思显光电始终专注于光谱共焦位移传感、线光谱共焦三维测量、非接触式表面轮廓与粗糙度测量等核心技术方向，服务于半导体、微电子、精密制造、科研院所及计量检测等领域客户。
此次参与 JJF 2382-2026 的起草工作，是思显光电从产品研发、应用实践进一步走向行业基础技术规范建设的重要体现。
三、规范明确三大计量特性：测量重复性、漂移、示值误差
对于高精度测量仪器而言，客户真正关心的不只是“能不能测”，更是“测得准不准、稳不稳、结果能不能验证”。
JJF 2382-2026 明确提出，光谱共焦位移测量仪的主要计量特性包括：
测量重复性、漂移、示值误差。
其中，测量重复性反映仪器在相同条件下多次测量结果的一致性；漂移反映仪器在一定时间内测量结果的稳定性；示值误差则直接关系到仪器读数与标准值之间的偏差。
这三项指标共同构成了光谱共焦位移测量仪精度评价的重要基础。规范中还对校准环境、校准前准备、测量标准器、重复性测试、漂移测试、示值误差测试及校准证书内容提出了相应要求。
这意味着，光谱共焦位移测量仪的精度评价将不再仅依赖厂家样本参数，而是可以通过更加规范的校准方法进行验证。
四、为客户选型、验收、复校和精度评价提供更明确依据
JJF 2382-2026 的实施，将对光谱共焦位移测量仪的采购、验收、使用和复校产生积极影响。
对于设备采购方而言，未来在选择光谱共焦位移测量仪时，不应只关注分辨力、量程、采样速度等样本参数，还应关注仪器的测量重复性、漂移、示值误差、校准不确定度及长期稳定性。
对于质量检测和工艺控制部门而言，规范的发布有助于建立更加清晰的设备验收标准和复校依据，降低不同厂家、不同设备、不同使用场景之间因评价口径不一致带来的沟通成本。
对于半导体、微电子、液晶平板、精密加工等高端制造客户而言，光谱共焦位移测量仪的测量结果将更加有据可依，有助于提升制程检测、来料检验、质量追溯和工艺优化的可靠性。
规范中还提出，光谱共焦位移测量仪的复校时间间隔由用户根据实际使用情况决定，建议不超过 1 年。 这也为客户建立长期设备精度管理机制提供了重要参考。
五、思显光电将持续推动国产光谱共焦测量设备走向标准化、可验证、可溯源
作为国产高端精密光学测量装备企业，思显光电始终认为，高精度测量设备的价值不仅体现在参数指标上，更体现在真实应用场景中的稳定性、可靠性和可验证性。
从光谱共焦传感器，到线光谱共焦三维测量系统，再到非接触式表面轮廓与粗糙度测量设备，思显光电持续围绕高端制造客户的真实测量需求，构建从硬件、算法、软件、应用工艺到计量验证的完整能力。
未来，思显光电将继续以核心技术自主研发为基础，以行业应用需求为导向，积极参与精密测量领域的规范化建设，推动国产光谱共焦测量设备向更高精度、更高稳定性、更强可验证能力和更完善计量溯源体系方向发展。
光谱共焦测量，正在进入可校准、可验证、可溯源的新阶段。
思显光电，也将持续为中国高端制造提供更加可靠的精密光学测量解决方案。
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